设备用途：用于晶圆表面的金属粒子、有机物等各类颗粒的清洗； 核心原理：利用有机溶剂对有机残留物进行溶解、漂洗； 利用各类无机酸对金属残留进行反应、漂洗；
IPA DRY马兰格尼干燥柜利用了硅片表面张力的梯度变化原理，以达到使晶圆干燥的目的。先用流动的去离子水在晶圆外表面产生很薄的一层水膜，之后再通入大量的异丙醇气体把晶圆上的水层去掉，从而使硅片干燥。这种工艺重中之重是要控制去离子水层和异丙醇气体层在硅片表面移动的快慢。目前半导体工厂里常用的移动速度是1-1.5mm/s，现在还有一种好的方法是增加去离子水兆省喷头并且控制移动速度在0.3-2.5mm/s，这种方式一般用于高端的单片腐蚀清洗上。
设备用途：2、3、4寸晶圆镀金，适用于芯片生产客户； 核心原理：在晶圆清洗后利用预处理液/镀金液/DIW/王水对其进行四步镀金工艺；
设备用途：类湿法生产设备的药业供给； 核心原理：对主机台( 需求设备 )进行通讯，当主机台需要药液自动开启隔膜泵、阀进行供液到指定需求量； 设备功能：PLC人机交互，多工位循环供液、空桶报警、漏液报；内部PFA、C-PVC管路可满足各类酸碱药业的供给，如:氢氟酸、显影液等。
恒温水浴槽是一款高端定制设备，设备整体为耐腐蚀酸碱的PP板材制作，更加洁净，适合洁净实验室内使用，温度控制系统为高精度温度控制仪，可实现高达±0.5℃精度范围稳定控制，设备具有高稳定性，可以很好保证其中流体动态保持稳定性，设备带有万向轮，可实现自由移动。
设备用途：用于光纤行业的预制棒清洗； 核心原理：利用HF与石英的化学反应，蚀刻掉石英棒等工件含有杂质的表层，使其表面质量、纯净度、尺寸等达到后续生产需求； 设备功能：自动供液、自动混液、药液加热、药液保温、碱水中、纯水漂洗等； 控制方式：利用PLC+触控屏进行人机交互，可编辑多个工艺表；选定工艺表后可自动完成清洗程序。
应用：光纤预制棒清洗；适用于大型预制棒清洗 原理：在光纤预制棒进行化学加工后，利用各类药水对其表面残留物进行清洗； 功能：大型机械臂全自动控制，最大可清洗长度6m的光纤预制棒；清洗、漂洗、冲洗三槽循环制程；带HOTN2吹干、自动补液、自动排液、生产记录等功能；
设备用途：用于晶圆、石英等工件表面的顽固有机物清洗，如硅胶等各类有机物； 核心原理：利用SPM（H2SO4/H2O2）在120°-150°温度下的强氧化性，将各类有机物、胶氧化成CO2和H2O后排掉； 设备功能：自动混液、自动补液、红外加热、去胶清洗、纯水漂洗； 控制方式：利用PLC+触控屏进行人机交互，可编辑多个工艺表；选定工艺表后可自动完成清洗程序。
原理：在晶圆进行生产后利用DIW或者UPW对其进行表面清洗； 功能：补液、快排、鼓泡、溢流、喷淋、超声、家人；通过PLC进行人机交互，操作人员可以选择以上部分或者全部功能再对应设定生产时间，一键启动后全自动完成清洗制程；具有生产记录、报警、漏液报警等安全辅助功能；